據(jù)國(guó)家科技部消息，物理氣相沉積（
PVD）是半導(dǎo)體芯片和TFT-LCD生產(chǎn)過(guò)程中最關(guān)鍵的工藝之一，PVD用
濺射金屬靶材是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)及TFT-LCD制備加工過(guò)程中最重要的原材料之一，濺射金屬靶材中用量最大的是超
高純鋁和超高純凈
鋁合金靶材。
由此可見(jiàn)，研發(fā)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大尺寸超高純
鋁靶材的制造關(guān)鍵技術(shù)，開(kāi)發(fā)出滿足半導(dǎo)體行業(yè)及TFT-LCD產(chǎn)業(yè)需求的超高純鋁靶材產(chǎn)品，對(duì)于我國(guó)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。
為公正、公平、公開(kāi)地選擇項(xiàng)目承擔(dān)單位，充分調(diào)動(dòng)相關(guān)企業(yè)、科研院所及高等院校的積極性，集成全國(guó)在鋁的精煉提純、大尺寸
鋁板形變加工及濺射金屬靶材專業(yè)制備等領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)研發(fā)力量開(kāi)展本項(xiàng)目的工作，科技部發(fā)布了《國(guó)家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃（863計(jì)劃）
新材料技術(shù)領(lǐng)域“大尺寸超高純鋁靶材的制造技術(shù)”重點(diǎn)項(xiàng)目申請(qǐng)指南》。
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